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產品技術
正膜Al?O?
夸父?系列KF20000批量式ALD系統
夸父系列工業批量型原子層沉積系統采用微導原創的反應腔體設計和先進的薄膜沉積及自動化集成技術,可為高效晶硅太陽能電池表面鈍化提供高質量超薄鈍化膜的制備，確保電池光電轉換效率的進一步提升。基于成功量產機型的設計原理，夸父系列 ALD薄膜鈍化系統是微導納米原創設計的第五代產品，代表了光伏行業國產創新設備的先進技術，在提供超高產能的同時,最大程度降低設備的運營成本，為客戶提供可靠的量產解決方案，引領光伏產業化高效電池智能化制造。
銷售郵箱
產品特點
適用于PERC, PERT, TOPCon, XBC, HJT, Perovskite, Tandem-Cell等高效電池技術的應用
1
可制備薄膜包括Al?O?, SiO?, TiO?, ZnO, SnO?, HfO?, ZrO?等
2
單腔最大裝片量可達3360片/批次，兼容M10-M12硅片尺寸，升級切換簡單
3
精確實現原子層級薄膜厚度控制（1-10 nm，可調），具備優異的薄膜厚度均勻性
4
獨立運行反應腔體，確保最大化設備運行率（>99%）
5
提供定制化復雜納米疊層工藝以及CVD兼容功能
6