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CN
產(chǎn)品技術(shù)
泛半導(dǎo)體
iTomic? MW系列批量式原子層沉積系統(tǒng)
iTomic? MW系列批量式原子層沉積系統(tǒng)采用創(chuàng)新的批量型(mini-batch)腔體設(shè)計(jì),可一次處理25片12英寸晶圓,適用于成膜鍍率低,厚度要求高,以及產(chǎn)能要求高的關(guān)鍵工藝及應(yīng)用。iTomic? MW系列產(chǎn)品利用特有的流場(chǎng)設(shè)計(jì),具有成膜速度快,占地面積小,產(chǎn)能高、使用成本低等優(yōu)勢(shì),為存儲(chǔ)芯片以及Micro-OLED顯示器、MEMS等提供定制化量產(chǎn)的解決方案。
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產(chǎn)品特點(diǎn)
25片12寸晶圓(兼容8寸晶圓)MW ALD系統(tǒng),適用于厚膜或生長(zhǎng)率較低的工藝需求
1
提供優(yōu)異的薄膜片內(nèi)(WiW)和片間(WtW)均勻性,更好地滿(mǎn)足客戶(hù)工藝需求
2
薄膜材料:Al?O?、HfO?、SiO?等
3
與爐管型設(shè)備相比,MW ALD系列在減少顆粒度的同時(shí)大大降低了熱過(guò)程,避免芯片器件在制程中的熱損傷
4
特別適用于高產(chǎn)能、超高深寬比結(jié)構(gòu)器件的量產(chǎn)化鍍膜工藝
5